磁控濺射靶材種類:金屬濺射鍍膜靶材,合金濺射鍍膜靶材,香港銀墊圈,陶瓷濺射鍍膜靶材,硼化物陶瓷濺射靶材,碳化物陶瓷濺射靶材,氟化物陶瓷濺射靶材,氮化物陶瓷濺射靶材,氧化物陶瓷靶材,硒化物陶瓷濺射靶材,硅化物陶瓷濺射靶材,銀墊圈廠,硫化物陶瓷濺射靶材,碲化物陶瓷濺射靶材,其他陶瓷靶材,銀墊圈價(jià)格,摻鉻一氧化硅陶瓷靶材(Cr-SiO),磷化銦靶材(InP),鉛靶材(PbAs),銦靶材(InAs)。
在使用電子照相方法的打印技術(shù)中,已經(jīng)漸進(jìn)實(shí)現(xiàn)高速打印操作、高質(zhì)量圖像形成、彩色像形成、以及成像裝置小型化,并且變得很普遍。色粉一直是這些改進(jìn)的關(guān)鍵。為滿足上述需要,必須形成精細(xì)分配的色粉顆粒,使得色粉顆粒的直徑均一,并且使得色粉顆粒呈球形。至于形成精細(xì)分配的色粉顆粒的技術(shù),近已經(jīng)開發(fā)出直徑不超過10nm的色粉和不超過5pm的色粉。至于使色粉呈球形的技術(shù),已經(jīng)開發(fā)出球形度99%以上的色粉。
濺射技術(shù):濺射是制備薄膜材料的主要技術(shù)之一,它利用離子源產(chǎn)生的離子,在真空中經(jīng)過加速聚集,而形成高速度能的離子束流,轟擊固體表面,離子和固體表面原子發(fā)生動(dòng)能交換,銀墊圈廠家,使固體表面的原子離開固體并沉積在基底表面,被轟擊的固體是制備濺射法沉積薄膜的原材料,稱為濺射靶材。各種類型的濺射薄膜材料無(wú)論在半導(dǎo)體集成電路、太陽(yáng)能光伏、記錄介質(zhì)、平面顯示以及工件表面涂層等方面都得到了廣泛的應(yīng)用。
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