在所有應(yīng)用產(chǎn)業(yè)中,半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)對(duì)靶材濺射薄膜的品質(zhì)要求是苛刻的。如今12英寸(300衄口)的硅晶片已制造出來.而互連線的寬度卻在減小。硅片制造商對(duì)靶材的要求是大尺寸、高純度、低偏析和細(xì)晶粒,丹東貴金屬復(fù)合材料,這就要求所制造的靶材具有更好的微觀結(jié)構(gòu)。靶材的結(jié)晶粒子直徑和均勻性已被認(rèn)為是影響薄膜沉積率的關(guān)鍵因素。另外,薄膜的純度與靶材的純度關(guān)系極大,過99.995%(4N5)純度的銅靶,貴金屬復(fù)合材料哪家好,或許能夠滿足半導(dǎo)體廠商0.35pm工藝的需求,但是卻無法滿足如今0.25um的工藝要求。
使用電子導(dǎo)電性橡膠時(shí),由于導(dǎo)電性填充劑添加量的變化都會(huì)引發(fā)電阻劇烈變化,所以存在電阻值很難控制的問題。而且,由于橡膠中的導(dǎo)電性填充劑難以均勻分散,貴金屬復(fù)合材料廠,所以輥筒的圓周方向和寬度方向上的電阻值不均勻。
對(duì)橡膠組合物進(jìn)行硫化處理的方法包括使用加壓裝置和硫化處理槽的間歇式或連續(xù)式硫化法。用間歇式硫化法進(jìn)行硫化處理制造輥筒時(shí),由于端部和中央部分會(huì)產(chǎn)生壓力和熱傳遞差,所以電阻值不均勻。
各種純度鋁中的雜質(zhì)含量及剩余電阻率如表2所示。超純金屬超純的純度也可以用剩余電阻率來測(cè)定,其值約為2×10-5?,F(xiàn)代科學(xué)技術(shù)的發(fā)展趨勢(shì)是對(duì)金屬純度要求越來越高。因?yàn)榻饘傥茨苓_(dá)到一定純度的情況下,金屬特性往往為雜質(zhì)所掩蓋。不僅是半導(dǎo)體材料,貴金屬復(fù)合材料加工,其他金屬也有同樣的情況,由于雜質(zhì)存在影響金屬的性能。
鎢過去用作燈泡的燈絲,由于脆性而使處理上有困難,在適當(dāng)提純之后,這種缺點(diǎn)即可以克服(鎢絲也有摻雜及加工問題)。
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