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主營：等離子拋光設(shè)備,等離子拋光機,等離子電漿拋光設(shè)備
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| 先生： |
等離子納米拋光是一種全新的金屬表面處理工藝——僅在工件表面的分子層與等離子反應(yīng)，分子中原子一般間距為0.1-0.3納米，處理深度為0.3-1.5納米。拋光物的表面粗糙度在1mm范圍內(nèi)，因此等離子納米拋光處理可以化學(xué)活化工件表面，去除表面分子污染層，交叉鏈接表面在化學(xué)物質(zhì)。等離子也稱為物質(zhì)的第四態(tài)，是一種電磁氣態(tài)放電現(xiàn)象，使氣態(tài)粒子部分電離，這種被電離的氣體包括原子、分子、原子團、離子和電子。等離子就是在高溫高壓下，拋光劑水溶，但是在高溫高壓下，電子會脫離原子核而跑出來，原子核就形成了一個帶正點的離子，當這些離子達到一定數(shù)量的時候可以成為等離子態(tài)，等離子態(tài)能量很大，當這些等離子和要拋光的物體摩擦?xí)r，頃刻間會使物體達到表面光亮的效果。
等離子拋光技術(shù)采用的是無污染的等離子體進行表面處理，會產(chǎn)生相對電解極低廢氣、廢水和廢物，通過簡單處理即可達標、具有很好的環(huán)保性。與傳統(tǒng)的化學(xué)拋光相比，它可以有效避免化學(xué)廢液對環(huán)境的污染和危害。此外，等離子拋光技術(shù)還可以減少機械拋光過程中的摩擦和熱量，降低材料的損傷和變形。等離子拋光技術(shù)適用于多種材料的表面處理，只針對金屬、。它可以處理各種形狀和尺寸的工件，包括平板、彎曲、薄膜和微細結(jié)構(gòu)等、不限形狀。
拋光設(shè)備中電極的形狀也會影響拋光質(zhì)量。電極的形狀會直接影響等離子體的產(chǎn)生和分布，從而影響拋光效果。因此，在操作拋光設(shè)備時，需要根據(jù)不同的拋光材料和工藝參數(shù)選擇合適的電極形狀，以獲得的拋光效果。拋光設(shè)備中的前處理也會影響拋光質(zhì)量。前處理包括去除表面污染物和氧化物，以及表面磨削和腐蝕等步驟。前處理不充分或過度會影響拋光質(zhì)量。因此，在操作拋光設(shè)備時，需要對拋光材料進行適當?shù)那疤幚?，以獲得的拋光效果。
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