頂旭桌面微型光刻機(jī),專為微米級圖案制作而設(shè)計,旨在保障卓yue的圖形轉(zhuǎn)移精度。設(shè)備采用紫外LED冷光源,SU8模具加工設(shè)備作用,結(jié)合雙非球面石英透鏡,可生成半角<2°的平行光,相較傳統(tǒng)接觸式曝光機(jī),其極zhi緊湊的體積將移形換影置于桌面之上,為操作提供了便利與精zhun。
頂旭(蘇州)微控技術(shù)有限公司是一家專注于微流控領(lǐng)域的高科技企業(yè),我們致力于為客戶提供微流控芯片定制、表面修飾改性、微流控芯片加工設(shè)備、以及微流控儀器等全mian的微流控解決方案
腦芯片如何定制使用方法該設(shè)備操作簡單,易于上手,具體操作如下:
一、曝光前準(zhǔn)備工作
1、硅片處理:確保待曝光硅片經(jīng)過勻膠處理,SU8模具加工設(shè)備公司,表面干凈平整,SU8模具加工設(shè)備性能,沒有明顯的污漬或破損。
2、選擇光刻板:根據(jù)項目需要,選擇合適尺寸的光刻板,本設(shè)備兼容4英寸、5英寸或6英寸。
3、設(shè)備檢查:仔細(xì)檢查設(shè)備,確保所有部件處于正常工作狀態(tài),確保操作環(huán)境良好。
頂旭(蘇州)微控技術(shù)有限公司是一家專注于微流控領(lǐng)域的高科技企業(yè),SU8模具加工設(shè)備,我們致力于為客戶提供微流控芯片定制、表面修飾改性、微流控芯片加工設(shè)備、以及微流控儀器等全mian的微流控解決方案。
技術(shù)參數(shù)
曝光光源:紫外LED光源波長:365nm;
曝光面積:4英寸、6英寸可選;
曝光方式:單面接觸式定時曝光;
曝光分辨率:2um;
曝光強(qiáng)度:20~200mW/cm2可調(diào);
曝光不均勻性:≤5%;
光源平行性:≤2°;
光源壽命:≥20000h;
電源輸入:AC220V±10V,50HZ
功率:250W
重量:25kg
外形尺寸:382(長)*371(寬)*435(高)
工作環(huán)境:溫度0℃-40 ℃,相對濕度<80 %
頂旭(蘇州)微控技術(shù)有限公司是一家專注于微流控領(lǐng)域的高科技企業(yè),我們致力于為客戶提供微流控芯片定制、表面修飾改性、微流控芯片加工設(shè)備、以及微流控儀器等quan面的微流控解決方案。公司團(tuán)隊擁有豐富的經(jīng)驗和技術(shù)積累,持續(xù)將專ye知識與創(chuàng)新思維相結(jié)合,為客戶提供高pin質(zhì)的解決方案。
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