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鋼研納克江蘇檢測技術研究院有限公司
主營：直讀光譜儀 ICP光譜儀 ICPMS 碳硫分析儀 氧氮分析儀
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電感耦合等離子體質譜法測定化妝品中的37種元素
立電感耦合等離子體質譜法測定化妝品中37種元素的檢測方法，根據化妝品不同基質，選用-微波消解體系或-濕法消解體系，采用在線內標及碰撞反應池技術校正機體效應，外標法
定量進行ICP-MS測定。方法檢出限1 ~ 80瞄/kg，線性相關系數均大于0.997， RSD為1.0% - 8.9%， 加標回收率為81.3% ~ 115.2%。實驗結果表明，該方法簡便、快速、靈敏度高、準確性好，適用于化妝品中37種元素的同時測定。
鋼研納克國產ICP-MS具有多元素同時檢測的優(yōu)勢，靈敏度高、 線性范圍寬，既適用于樣品中痕量元素的檢測也能同時滿足微量元素的測定。ICP-MS分析中干擾問題是影響分析 結果準確度和精密度的障礙，電感耦合等離子體質譜，其主要的干擾方式分為質譜干擾、基體干擾和物理效應干擾三大類。質譜干擾
可通過選擇合適的同位素離子及儀器校正消除；物理干擾可通過清洗霧化室，進樣錐及進樣管路消除；基體干擾 是指復雜的基體引起的ICP平衡的轉變，對待側元素的質譜信號產生抑制或增應，可采用加入內標元素校正
和采用碰撞/反應池技術消除。針對化妝品的不同劑型，電感耦合等離子體質譜廠家，應用微波消解和濕法消解體系，建立了電感耦合等離子體 質譜對8類化妝品中37種元素的測定方法，為化妝品中重金屬及其他有害元素的監(jiān)測提供了技術支持。
鋼研納克PlasmaMS 300 電感耦合等離子體質譜儀 ICP-MS擁有自主知識產權
軟件著作權
1.《Imass質譜軟件》V1.0.0，2015R11S240625
文章
1.《一種四級桿質譜儀真空測量系統(tǒng)及控制系統(tǒng)的研制》2017.2，期刊
2.《HPLC-ICP-MS 測定六種中藥中五種形態(tài)》，2016.10.北京光譜年會
3.《電感耦合等離子體質譜法測定鎳鎢合金中》2015.3.6，期刊
4.《不銹鋼薄板橫截面的激光剝蝕-電感耦合等離子體質譜原位統(tǒng)計分布分析》2013.10
5.《電感耦合等離子體四級桿質譜碰撞反應池技術現(xiàn)狀與發(fā)展》，2013.3，期刊
6.《電感耦合等離子體四極桿質譜離子光學系統(tǒng)的現(xiàn)狀和進展》2013.3，期刊
7.《激光剝蝕電感耦合等離子體質譜新進展》， 2012.3，期刊
8.《電感耦合等離子體法測量錳鋅》；2014，冶金分析
這些干擾要有效識別和消除 ICP-MS 質譜儀中的干擾，可以采取以下一些方法
干擾校正方程：通過建立干擾校正方程，利用已知的干擾元素和目標元素的關系，對干擾進行校正。
內標法：使用內標元素來監(jiān)測和校正信號的變化，以補償基體效應和其他干擾。
碰撞/反應池技術：利用碰撞/反應池來去除或降低多原子離子、分子離子等干擾。
選擇合適的質量數：避免選擇受到嚴重干擾的質量數，或者采用高分辨率質譜儀來區(qū)分干擾和目標離子。
優(yōu)化儀器參數：調整射頻功率、離子源氣體流量等參數，以減少干擾的影響。
樣品前處理：適當的樣品前處理方法可以去除干擾物質，如稀釋、萃取、凈化等。
同位素比值測量：通過測量同位素比值，可以消除一些干擾的影響，電感耦合等離子體質譜價格，并提供的分析結果。
質量篩選：利用質量篩選技術，只監(jiān)測特定質量數范圍內的離子，減少干擾的干擾。
數據處理方法：采用合適的數據處理軟件和算法，如背景扣除、平滑、校正等，來校正干擾。
標準加入法：通過添加已知濃度的標準物質到樣品中，電感耦合等離子體質譜廠家，校正基體效應和干擾。
識別和消除干擾需要綜合考慮多種方法，并根據具體的分析需求和樣品特點選擇合適的策略。同時，定期進行質量控制和方法驗證也是確保干擾得到有效校正的重要步驟。
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